磁控溅射用钌靶
CMA资质认定
CNAS认可证书
ISO认证
高新技术企业
GB/T 34649-2017
磁控溅射用钌靶
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2017-09-29
- 【CCS分类】H68贵金属及其合金
- 【ICS分类】77.150.99其他有色金属产品
YS/T 718-2009
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
- 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
- 【发布日期】2009-12-04
- 【CCS分类】H63稀有高熔点金属及其合金
- 【ICS分类】77.150.99其他有色金属产品
YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
- 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
- 【发布日期】2009-12-04
- 【CCS分类】H63稀有高熔点金属及其合金
- 【ICS分类】77.150.99其他有色金属产品
YS/T 1068-2015
制备钌靶用钌粉
- 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H68贵金属及其合金
- 【ICS分类】77.150.99其他有色金属产品
YS/T 1024-2015
溅射用钽靶材
- 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H63稀有高熔点金属及其合金
- 【ICS分类】77.150.99其他有色金属产品
T/CAS 304-2018
磁控溅射硅靶材及绑定靶材
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2018-05-29
- 【CCS分类】L19磁性元器件
- 【ICS分类】29.045半导体材料
20230079-T-604
金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2023-03-21
- 【CCS分类】A29材料防护
- 【ICS分类】
