电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定-电感耦合等离子体质谱法
原创来源：北检院 发布时间：2024-12-19 15:26:36 点击数：
全国服务领域：河北、山西、黑龙江、吉林、辽宁、江苏、浙江、安徽、福建、江西、山东、河南、湖北、湖南、广东、海南、四川、贵州、云南、陕西、甘肃、青海、台湾、内蒙古、广西、西藏、宁夏、新疆、北京、天津、上海、重庆、香港、澳门
GB/T 37049-2018
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2018-12-28
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析
GB/T 24582-2023
多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-08-06
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
T/CNIA 0141-2022
多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2022-02-28
- 【CCS分类】半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
T/CNIA 0017-2019
多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2019-02-13
- 【CCS分类】H17无机化工原料综合
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
DB53/T 501-2013
多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-DB53云南省地方标准
- 【发布日期】2013-08-01
- 【CCS分类】G10
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
检测流程
1、确认客户委托，寄样。
2、到样之后，确定具体的试验项目以及试验方案。
3、实验室报价。
4、签订保密协议，进行试验。
5、完成试验，确定检测报告
6、后期技术服务
友情提示：暂不接受个人委托测试
以上是关于"电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定-电感耦合等离子体质谱法"的介绍，如有其他问题可以咨询工程师为您服务！
实验室仪器
荣誉资质
服务项目
SERVICE PROJECT
