电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定-电感耦合等离子体质谱法
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高新技术企业
GB/T 37049-2018
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2018-12-28
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析
GB/T 24582-2023
多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-08-06
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
T/CNIA 0141-2022
多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2022-02-28
- 【CCS分类】半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
T/CNIA 0017-2019
多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2019-02-13
- 【CCS分类】H17无机化工原料综合
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
DB53/T 501-2013
多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-DB53云南省地方标准
- 【发布日期】2013-08-01
- 【CCS分类】G10
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
