碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定-二次离子质谱法
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CNAS认可证书
ISO认证
高新技术企业
GB/T 41153-2021
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-12-31
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
YS/T 1600-2023
碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
- 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
- 【发布日期】2023-04-21
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析
