表面化学分析-水的全反射X射线荧光光谱分析
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高新技术企业
GB/T 42360-2023
表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-03-17
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 40110-2021
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 30701-2014
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2014-03-27
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 20289:2018
表面化学分析 - 水的全反射X射线荧光分析
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2018-03-15
- 【CCS分类】金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 20289:2018
表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2018-03-23
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
BS ISO 14706:2014
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2014-07-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO/TS 18507:2015
表面化学分析 - 全反射X射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2015-07-22
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS PD ISO/TS 18507:2015
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的应用
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2015-07-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO 14706:2014
表面化学分析 - 通过全反射X射线荧光（TXRF）光谱测定硅晶片上的表面元素污染
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2014-07-25
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
JIS K 0148:2005
表面化学分析用全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 JP-JSA日本工业标准调查会
- 【发布日期】2005-01-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】金属材料试验
BS ISO 17331:2004+A1:2010
表面化学分析 硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-09-30
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO 17331:2004
表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2004-05-18
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2010-07-05
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40半导体材料
BS ISO 14706:2000
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2001-05-15
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
ISO 14706:2000
表面化学分析——全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2000-12-21
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
BS ISO 17331:2004
表面化学分析 硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2005-03-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
GB/T 24578-2024
半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2024-07-24
- 【CCS分类】H21
- 【ICS分类】77.040
KS D ISO 14706-2003(2023)
表面化学分析-全反射X射线荧光分析仪测定硅晶片表面元素杂质
- 【发布单位或类别】 KR-KS韩国标准
- 【发布日期】2003-12-29
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
KS D ISO 14706-2003(2018)
表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质
- 【发布单位或类别】 KR-KS韩国标准
- 【发布日期】2003-12-29
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
ASTM F1526-95(2000)
通过全反射X射线荧光光谱测量硅晶片上的表面金属污染的标准测试方法（2003年提出）
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2000-01-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】29.045
