表面化学分析-二次离子质谱-用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
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高新技术企业
GB/T 20176-2006
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2006-03-27
- 【CCS分类】N33电子光学与其他物理光学仪器
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
20232769-T-469
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2023-12-28
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 14237:2010
表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2010-07-09
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 14237:2010
表面化学分析 二次离子质谱法 用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-08-31
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】化学分析
AS ISO 14237-2006
表面化学分析.二次离子质谱法.使用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 AU-AS澳大利亚标准
- 【发布日期】2006-10-20
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】化学分析
BS ISO 14237:2000
表面化学分析 二次离子质谱法 用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2000-04-15
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】化学分析
BS 09/30153670 DC
BS ISO 14237 表面化学分析 二次离子质谱法 用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2009-06-18
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】化学分析
ISO 14237:2000
表面化学分析.二次离子质谱法.使用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2000-02-03
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 40109-2021
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 32495-2016
表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2016-02-24
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 40129-2021
表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 43663-2024
表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2024-03-15
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 25186-2010
表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2010-09-26
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 22572-2008
表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2008-12-11
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 41064-2021
表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-12-31
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
KS D ISO 17560-2003(2023)
表面化学分析-二次离子质谱分析-硅内硼深度分布测定场法
- 【发布单位或类别】 KR-KS韩国标准
- 【发布日期】2003-10-06
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
KS D ISO 22048-2005(2020)
表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式
- 【发布单位或类别】 KR-KS韩国标准
- 【发布日期】2005-12-28
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
20232366-T-469
表面化学分析 二次离子质谱 单离子计数飞行时间质谱分析器的强度标线性
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2023-12-28
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40
BS ISO 22048:2004
表面化学分析 静态二次离子质谱信息格式
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2005-03-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
ISO 22048:2004
表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2004-08-25
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
