锗单晶位错密度的测试方法
CMA资质认定
CNAS认可证书
ISO认证
高新技术企业
GB/T 5252-2020
锗单晶位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2020-06-02
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 8760-2020
砷化镓单晶位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2020-09-29
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 41765-2022
碳化硅单晶位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2022-10-12
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 34481-2017
低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度（EPD）的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2017-10-14
- 【CCS分类】H25金属化学性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 5252-2006
锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2006-07-18
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
GB/T 5252-1985
锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1985-07-22
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 8760-2006
砷化镓单晶位错密度的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2006-07-18
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
20240136-T-469
金刚石单晶抛光片位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2024-03-25
- 【CCS分类】金相检验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 8760-1988
砷化镓单晶位错密度的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1988-02-25
- 【CCS分类】H24半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析
T/IAWBS 018-2022
金刚石单晶抛光片位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2022-12-15
- 【CCS分类】金属化学性能试验方法
- 【ICS分类】29.045半导体材料
T/IAWBS 014-2021
碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2021-09-15
- 【CCS分类】H17金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 33763-2017
蓝宝石单晶位错密度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2017-05-31
- 【CCS分类】H25
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 32282-2015
氮化镓单晶位错密度的测量 阴极荧光显微镜法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2015-12-10
- 【CCS分类】H21
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
