硅片弯曲度测试方法

2025-01-12 12:49:43 阅读 检测标准
CMA资质认定

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CNAS认可证书

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ISO认证

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高新技术企业

高新技术企业

GB/T 6619-2009

硅片弯曲度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2009-10-30
  • 【CCS分类】H80半金属与半导体材料综合
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 6619-1995

硅片弯曲度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】1995-04-18
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 32280-2022

硅片翘曲度和弯曲度的测试 自动非接触扫描法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2022-03-09
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 6620-2009

硅片翘曲度非接触式测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2009-10-30
  • 【CCS分类】H82元素半导体材料
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 31353-2014

蓝宝石衬底片弯曲度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2014-12-31
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040.99金属材料的其他试验方法

GB/T 30859-2014

太阳能电池用硅片翘曲度和波纹度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2014-07-24
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 32280-2015

硅片翘曲度测试自动非接触扫描法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2015-12-10
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 6620-1995

硅片翘曲度非接触式测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】1995-04-18
  • 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析

ASTM F534-02

硅片弯曲度的标准试验方法

  • 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
  • 【发布日期】2002-01-10
  • 【CCS分类】半金属与半导体材料综合
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

ASTM F534-97

硅片弯曲度的标准试验方法

  • 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
  • 【发布日期】2002-01-10
  • 【CCS分类】金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 26067-2010

硅片切口尺寸测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2011-01-10
  • 【CCS分类】H80半金属与半导体材料综合
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 31352-2014

蓝宝石衬底片翘曲度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2014-12-31
  • 【CCS分类】H21塑料型材
  • 【ICS分类】77.040.99金属材料的其他试验方法

GB/T 6621-2009

硅片表面平整度测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2009-10-30
  • 【CCS分类】H80金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

QB/T 2803-2006

硬质塑料管材弯曲度测量方法

  • 【发布单位或类别】 CN-QB行业标准-轻工
  • 【发布日期】2006-07-27
  • 【CCS分类】G33半金属与半导体材料综合
  • 【ICS分类】23.040.20塑料管

GB/T 42789-2023

硅片表面光泽度的测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2023-08-06
  • 【CCS分类】H21半金属与半导体材料综合
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 6618-2009

硅片厚度和总厚度变化测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2009-10-30
  • 【CCS分类】H80半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 13388-2009

硅片参考面结晶学取向X射线测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2009-10-30
  • 【CCS分类】H80半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 19922-2005

硅片局部平整度非接触式标准测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2005-09-19
  • 【CCS分类】H17金属物理性能试验方法
  • 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合

GB/T 24578-2015

硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2015-12-10
  • 【CCS分类】H17
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 30869-2014

太阳能电池用硅片厚度及总厚度变化测试方法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2014-07-24
  • 【CCS分类】H21
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验