硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
原创来源：北检院 发布时间：2025-01-12 21:16:22 点击数：
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GB/T 24578-2015
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2015-12-10
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 24578-2009
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2009-10-30
- 【CCS分类】H80半金属与半导体材料综合
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 24578-2024
半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2024-07-24
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 30701-2014
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2014-03-27
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 17331:2004+A1:2010
表面化学分析 硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-09-30
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】化学分析
ISO 17331:2004
表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2004-05-18
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2010-07-05
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40半导体材料
BS ISO 17331:2004
表面化学分析 硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2005-03-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ASTM F1526-95(2000)
通过全反射X射线荧光光谱测量硅晶片上的表面金属污染的标准测试方法（2003年提出）
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2000-01-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】29.045化学分析
GB/T 40110-2021
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40
BS ISO 14706:2014
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2014-07-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
JIS K 0148:2005
表面化学分析用全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 JP-JSA日本工业标准调查会
- 【发布日期】2005-01-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
BS ISO 14706:2000
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2001-05-15
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
ISO 14706:2000
表面化学分析——全反射X射线荧光光谱法测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2000-12-21
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
检测流程
1、确认客户委托，寄样。
2、到样之后，确定具体的试验项目以及试验方案。
3、实验室报价。
4、签订保密协议，进行试验。
5、完成试验，确定检测报告
6、后期技术服务
友情提示：暂不接受个人委托测试
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