半导体晶片表面金属沾污的测定-全反射X射线荧光光谱法
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高新技术企业
GB/T 24578-2024
半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2024-07-24
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040金属材料试验
GB/T 30701-2014
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2014-03-27
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 40110-2021
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
JIS K 0148:2005
表面化学分析用全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 【发布单位或类别】 JP-JSA日本工业标准调查会
- 【发布日期】2005-01-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
