硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量X射线光电子能谱法
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高新技术企业
GB/T 25188-2010
硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量X射线光电子能谱法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2010-09-26
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 14701:2018
表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2018-11-05
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO 14701:2018
表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2018-10-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 14701:2011
表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2011-08-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
ISO 14701:2011
表面化学分析——X射线光电子能谱；氧化硅厚度的测量
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2011-08-02
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
BS 10/30212265 DC
BS ISO 14701 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-09-10
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
