硅外延用三氯氢硅

原创来源:北检院    发布时间:2025-01-24 02:11:08    点击数:

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GB/T 30652-2023

硅外延用三氯氢硅

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2023-08-06
  • 【CCS分类】H83化合物半导体材料
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

GB/T 30652-2014

硅外延用三氯氢硅

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2014-12-31
  • 【CCS分类】H83化合物半导体材料
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

YS/T 1060-2015

硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
  • 【发布日期】2015-04-30
  • 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析

YS/T 1059-2015

硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
  • 【发布日期】2015-04-30
  • 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析

GB/T 29056-2012

硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2012-12-31
  • 【CCS分类】L90电子技术专用材料
  • 【ICS分类】77.120有色金属

20240139-T-469

硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
  • 【发布日期】2024-03-25
  • 【CCS分类】其他无机化工原料
  • 【ICS分类】77.040金属材料试验

GB/T 28654-2018

工业三氯氢硅

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2018-06-07
  • 【CCS分类】G14其他无机化工原料
  • 【ICS分类】71.060.99其他无机化学品

GB/T 28654-2012

工业三氯氢硅

  • 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
  • 【发布日期】2012-09-03
  • 【CCS分类】G14污染控制技术规范
  • 【ICS分类】71.060.99其他无机化学品

HG/T 4683-2014

三氯氢硅泄漏的处理处置方法

  • 【发布单位或类别】 CN-HG行业标准-化工
  • 【发布日期】2014-07-09
  • 【CCS分类】Z05无机化工原料综合
  • 【ICS分类】13.030.20液态废物、淤泥

DB53/T 499-2013

多晶硅用三氯氢硅

  • 【发布单位或类别】 CN-DB53云南省地方标准
  • 【发布日期】2013-08-01
  • 【CCS分类】G10无机化工原料综合
  • 【ICS分类】71.060.99其他无机化学品

DB53/T 500-2013

多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-DB53云南省地方标准
  • 【发布日期】2013-08-01
  • 【CCS分类】G10无机化工原料综合
  • 【ICS分类】71.040.40化学分析

DB53/T 501-2013

多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法

  • 【发布单位或类别】 CN-DB53云南省地方标准
  • 【发布日期】2013-08-01
  • 【CCS分类】G10金属化学分析方法
  • 【ICS分类】71.040.40化学分析

T/QGCML 1421-2023

四氯化硅转化三氯氢硅铜基氢化催化剂 制备工艺规范

  • 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
  • 【发布日期】2023-09-18
  • 【CCS分类】半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】71.100.40表面活性剂及其他助剂

\u0413\u041e\u0421\u0422 26239.6-84

四氯化硅二氯硅烷 三氯硅烷 四氯化硅 1,3,3,3-四氢四硅氧烷 1,1,3,3-四氯硅烷 五氢五硅氧烷 六氢二硅氧烷 六氯硅烷测定法

  • 【发布单位或类别】 RU-GOST俄罗斯国家标准
  • 【发布日期】
  • 【CCS分类】H10/19半金属及半导体材料分析方法
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

SJ/T 10481-1994

硅外延层电阻率的面接触三探针方法

  • 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
  • 【发布日期】1994-04-11
  • 【CCS分类】H17化工
  • 【ICS分类】29.045半导体材料

YS/T 987-2014

氯硅烷中碳杂质的测定方法 甲基二氯氢硅的测定

  • 【发布单位或类别】 CN-YS行业标准-有色金属
  • 【发布日期】2014-10-14
  • 【CCS分类】H17半导体三极管
  • 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析

T/FSI 051-2020

1,2-二(三氯硅基)乙烷

  • 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
  • 【发布日期】2020-04-30
  • 【CCS分类】G半导体三极管
  • 【ICS分类】71.080.99其他有机化学品

SJ 1830-1981

3DK101型NPN硅外延平面小功率开关三极管

  • 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
  • 【发布日期】1981-09-10
  • 【CCS分类】L42半导体三极管
  • 【ICS分类】

SJ 1826-1981

3DK100型NPN硅外延平面小功率开关三极管

  • 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
  • 【发布日期】1981-09-10
  • 【CCS分类】L42
  • 【ICS分类】

SJ 1480-1979

3CG130型PNP硅外延平面高频小功率三极管

  • 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
  • 【发布日期】1979-09-11
  • 【CCS分类】L42
  • 【ICS分类】

检测流程

1、确认客户委托,寄样。

2、到样之后,确定具体的试验项目以及试验方案。

3、实验室报价。

4、签订保密协议,进行试验。

5、完成试验,确定检测报告

6、后期技术服务

友情提示:暂不接受个人委托测试

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实验室仪器

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荣誉资质

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