碳化硅单晶抛光片
CMA资质认定
CNAS认可证书
ISO认证
高新技术企业
GB/T 30656-2023
碳化硅单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-03-17
- 【CCS分类】H83化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 31351-2014
碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2014-12-31
- 【CCS分类】H26金属无损检验方法
- 【ICS分类】77.040.99金属材料的其他试验方法
SJ/T 11502-2015
碳化硅单晶抛光片规范
- 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H83化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 30656-2014
碳化硅单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2014-12-31
- 【CCS分类】H83化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
SJ/T 11504-2015
碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H83化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
SJ/T 11503-2015
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H83化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
SJ 21122-2016
PVTSiC76SI1-BP01型碳化硅单晶抛光片规范
- 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
- 【发布日期】2016-01-19
- 【CCS分类】冶金
- 【ICS分类】金属材料试验
20240494-T-469
碳化硅单晶抛光片堆垛层错测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2024-03-25
- 【CCS分类】半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040半导体材料
T/IAWBS 005-2024
6~8英寸碳化硅单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2024-01-12
- 【CCS分类】H金属理化性能试验方法
- 【ICS分类】29.045半导体材料
T/IAWBS 014-2021
碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2021-09-15
- 【CCS分类】H17化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
T/CNIA 0101-2021
绿色设计产品评价技术规范 碳化硅单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2021-03-19
- 【CCS分类】金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】29.045半导体材料
T/IAWBS 010-2019
碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2019-12-27
- 【CCS分类】H20/29化合物半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
T/IAWBS 005-2018
6 英寸碳化硅单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2018-12-06
- 【CCS分类】H83
- 【ICS分类】29.045金属材料试验
GB/T 43313-2023
碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-11-27
- 【CCS分类】H21
- 【ICS分类】77.040半导体材料
T/IAWBS 012-2019
碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法
- 【发布单位或类别】 CN-TUANTI团体标准
- 【发布日期】2019-12-27
- 【CCS分类】H83
- 【ICS分类】29.045半导体材料
20240138-T-469
氮化铝单晶抛光片
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2024-03-25
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】29.045
