表面化学分析-二次离子质谱-硅中砷的深度剖析方法
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GB/T 32495-2016
表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2016-02-24
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 40109-2021
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-05-21
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 12406:2010
表面化学分析——二次离子质谱法——硅中砷的深度剖面分析方法
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2010-11-08
- 【CCS分类】基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 41064-2021
表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-12-31
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 22572-2008
表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2008-12-11
- 【CCS分类】G04电子光学与其他物理光学仪器
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
GB/T 20176-2006
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2006-03-27
- 【CCS分类】N33基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 12406:2010
表面化学分析 二次离子质谱法 硅中砷的深度分析方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-11-30
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
20232769-T-469
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2023-12-28
- 【CCS分类】G04
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
ISO 17560:2014
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2014-09-10
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 17560:2014
表面化学分析 二次离子质谱法 硅中硼的深度剖面分析方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2014-09-30
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO/TS 22933:2022
表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2022-04-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40化学分析
BS ISO 20411:2018
表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数动态二次离子质谱中饱和强度的校正方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2018-03-14
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】化学分析
ISO 23812:2009
表面化学分析——二次离子质谱法——使用多δ层标准物质的硅深度校准方法
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2009-04-08
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
BS ISO 23812:2009
表面化学分析 二次离子质谱法 用多δ层标准物质对硅进行深度校准的方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2009-05-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
BS ISO 23830:2008
表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2008-12-31
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
ISO 23830:2008
表面化学分析——二次离子质谱法——静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2008-11-05
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
ISO 17109:2022
表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- 【发布单位或类别】 IX-ISO国际标准化组织
- 【发布日期】2022-03-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.40
BS 10/30199169 DC
BS ISO 12406 表面化学分析 二次离子质谱法 硅中砷的深度分析方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2010-03-09
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
BS 08/30138809 DC
BS ISO 23812 表面化学分析 二次离子质谱法 用多δ层标准物质对硅进行深度校准的方法
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2008-02-19
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
BS 07/30138812 DC
BS ISO 23830 表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- 【发布单位或类别】 GB-BSI英国标准学会
- 【发布日期】2007-04-24
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
