半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
CMA资质认定
CNAS认可证书
ISO认证
高新技术企业
|
国家 标准 |
|
GB/T 24578-2024 |
现行 |
| 国际标准分类号（ICS） 77.040 中国标准分类号（CCS） H21 |
英文标题
Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
