栅氧层击穿检测

原创来源:北检院    发布时间:2025-07-02 05:36:57    点击数:

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信息概要

栅氧层击穿检测是半导体器件可靠性测试中的重要环节,主要用于评估栅氧层的绝缘性能和耐久性。栅氧层作为MOSFET等器件的关键组成部分,其质量直接影响器件的性能和寿命。通过检测栅氧层的击穿电压、漏电流等参数,可以及时发现潜在缺陷,避免因栅氧层失效导致的器件故障。该检测对于确保半导体产品的可靠性、稳定性和安全性具有重要意义,广泛应用于集成电路、功率器件等领域。

检测项目

击穿电压,漏电流,栅氧层厚度,界面态密度,陷阱电荷密度,时间依赖介电击穿(TDDB),应力诱导漏电流(SILC),介电常数,缺陷密度,表面粗糙度,热载流子效应,偏压温度不稳定性(BTI),栅氧层完整性,电荷 trapping 效应,击穿能量,击穿时间,电场分布,界面陷阱能级,氧化层陷阱密度,应力电压下的寿命预测

检测范围

MOSFET,IGBT,FinFET,CMOS,DRAM,Flash存储器,功率半导体,射频器件,传感器,MEMS,模拟集成电路,数字集成电路,高压器件,低功耗器件,光电器件,SiC器件,GaN器件,SOI器件,纳米器件,三维集成电路

检测方法

时间依赖介电击穿(TDDB)测试:通过施加恒定电压或阶梯电压,测量栅氧层击穿时间。

电流-电压(I-V)特性测试:测量栅氧层在不同电压下的漏电流特性。

电容-电压(C-V)特性测试:评估栅氧层的介电性能和界面态密度。

电荷泵测试:用于检测栅氧层与硅衬底界面处的陷阱电荷。

热载流子注入测试:模拟高电场下热载流子对栅氧层的损伤。

偏压温度不稳定性(BTI)测试:评估器件在高温和偏压下的稳定性。

扫描电子显微镜(SEM)观察:直观检查栅氧层的表面形貌和缺陷。

透射电子显微镜(TEM)分析:观察栅氧层的微观结构和界面特性。

原子力显微镜(AFM)测量:评估栅氧层的表面粗糙度。

椭偏仪测试:非接触式测量栅氧层的厚度和光学常数。

二次离子质谱(SIMS)分析:检测栅氧层中的杂质分布。

X射线光电子能谱(XPS)分析:研究栅氧层的化学组成和键合状态。

深能级瞬态谱(DLTS)测试:分析栅氧层中的深能级陷阱。

噪声测试:通过低频噪声分析评估栅氧层的缺陷密度。

电致发光测试:检测栅氧层击穿前后的发光特性。

检测仪器

半导体参数分析仪,探针台,椭偏仪,原子力显微镜,扫描电子显微镜,透射电子显微镜,二次离子质谱仪,X射线光电子能谱仪,深能级瞬态谱仪,噪声分析仪,电致发光检测系统,高精度源表,恒温恒湿箱,高温烤箱,快速热处理炉

检测流程

1、确认客户委托,寄样。

2、到样之后,确定具体的试验项目以及试验方案。

3、实验室报价。

4、签订保密协议,进行试验。

5、完成试验,确定检测报告

6、后期技术服务

友情提示:暂不接受个人委托测试

以上是关于"栅氧层击穿检测"的介绍,如有其他问题可以咨询工程师为您服务!

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