离子注入硅片扩展电阻剖面（SRP）

原创来源：北检院    发布时间：2025-06-13 13:57:36    点击数：

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信息概要

离子注入硅片扩展电阻剖面（SRP）是一种用于测量半导体材料中载流子浓度分布的精密技术，广泛应用于集成电路制造和半导体工艺研发。该技术通过分析硅片表面至深部的电阻变化，精确表征离子注入后的掺杂分布情况。检测的重要性在于确保半导体器件的电学性能符合设计标准，优化工艺参数，提高产品良率，并为失效分析提供关键数据支持。SRP检测是半导体行业质量控制的核心环节，对保障芯片性能和可靠性具有不可替代的作用。

检测项目

载流子浓度分布，电阻率剖面，掺杂浓度梯度，结深测量，表面电阻均匀性，注入剂量准确性，横向扩散评估，激活率分析，缺陷密度评估，热稳定性测试，退火效果验证，界面态密度，迁移率变化，漏电流特性，击穿电压特性，接触电阻，薄层电阻，温度系数，应力效应，杂质分凝分析

检测范围

N型硅片，P型硅片，SOI硅片，外延片，抛光片，退火片，高阻硅片，低阻硅片，重掺硅片，轻掺硅片，砷注入片，硼注入片，磷注入片，锑注入片，铟注入片，镓注入片，预非晶化硅片，超浅结硅片，功率器件硅片，CMOS硅片

检测方法

四探针法：通过四电极接触测量表面电阻率

扩展电阻探针法：使用纳米级探针扫描获得电阻剖面

二次离子质谱法：深度剖析掺杂元素浓度分布

霍尔效应测试：确定载流子浓度和迁移率

CV测量法：分析载流子浓度与偏压关系

热波法：非接触式测量载流子寿命

微波反射法：评估自由载流子浓度

光致发光谱：检测缺陷和杂质能级

X射线衍射：分析晶格应变和损伤

原子力显微镜：表面形貌和电学特性同步测量

扫描电容显微镜：纳米级载流子分布成像

椭圆偏振光谱：薄膜厚度和光学常数测定

透射电子显微镜：观察微观缺陷结构

深能级瞬态谱：识别深能级缺陷

激光调制反射：快速表征掺杂分布

检测仪器

扩展电阻剖面仪，四探针测试仪，二次离子质谱仪，霍尔效应测量系统，CV特性分析仪，热波分析系统，微波反射计，光致发光谱仪，X射线衍射仪，原子力显微镜，扫描电容显微镜，椭圆偏振仪，透射电子显微镜，深能级瞬态谱仪，激光调制反射系统

检测流程

1、确认客户委托，寄样。

2、到样之后，确定具体的试验项目以及试验方案。

3、实验室报价。

4、签订保密协议，进行试验。

5、完成试验，确定检测报告

6、后期技术服务

友情提示：暂不接受个人委托测试

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