脉冲激光沉积系统(PLD)测试仪器-薄膜制备设备

脉冲激光沉积系统(PLD)

主要用途

脉冲激光沉积系统是用于薄膜制备的高科技设备。广泛应用于功能薄膜、超导薄膜等领域，能够制备高质量的外延薄膜。

参数指标

激光器：准分子激光；激光能量：≤800mJ；重复频率：1-50Hz；真空度：≤10^-6Pa；基底温度：室温-900℃。

主要样品类型

适用于功能薄膜制备，包括：氧化物薄膜、超导薄膜、铁电薄膜、磁性薄膜等。

主要实验项目

外延薄膜制备、多层膜制备、掺杂薄膜制备、薄膜结构调控等。