重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
原创来源：北检院 发布时间：2025-01-12 21:22:08 点击数：
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GB/T 24580-2009
重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2009-10-30
- 【CCS分类】H80半金属与半导体材料综合
- 【ICS分类】29.045半导体材料
SJ/T 11498-2015
重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-SJ行业标准-电子
- 【发布日期】2015-04-30
- 【CCS分类】H82元素半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
ASTM F1528-94(1999)
通过二次离子质谱法测量重掺杂N型硅衬底中的硼污染的标准测试方法（2003年退款）
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】1999-12-10
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】29.045半导体材料
检测流程
1、确认客户委托，寄样。
2、到样之后，确定具体的试验项目以及试验方案。
3、实验室报价。
4、签订保密协议，进行试验。
5、完成试验，确定检测报告
6、后期技术服务
友情提示：暂不接受个人委托测试
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