硅基MEMS制造技术-以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范
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高新技术企业
GB/T 32816-2016
硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2016-08-29
- 【CCS分类】L55微电路综合
- 【ICS分类】31.200集成电路、微电子学
GB/T 28277-2012
硅基MEMS制造技术 微键合区剪切和拉压强度检测方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2012-05-11
- 【CCS分类】L55微电路综合
- 【ICS分类】31.200集成电路、微电子学
DIN EN 62047-25
半导体器件.微机电器件.第25部分:硅基MEMS制造技术.微键合区域拉压和剪切强度的测量方法（IEC 62047-25-2016）；德文版EN 62047-25:2016
- 【发布单位或类别】 DE-DIN德国标准化学会
- 【发布日期】2017-04-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
DIN EN 62047-25-DRAFT
文件草稿——半导体器件——微机电器件——第25部分:硅基MEMS制造技术——微键合区域拉压和剪切强度的测量方法（IEC 47F/183/CD:2014）
- 【发布单位或类别】 DE-DIN德国标准化学会
- 【发布日期】2014-05-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】
