硅片直径测量方法
原创来源：北检院 发布时间：2025-02-23 06:23:13 点击数：
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GB/T 14140-2009
硅片直径测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2009-10-30
- 【CCS分类】H82元素半导体材料
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 14140.1-1993
硅片直径测量方法 光学投影法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1993-02-06
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
GB/T 14140.2-1993
硅片直径测量方法 千分尺法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1993-02-06
- 【CCS分类】H21金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
GB/T 29505-2013
硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2013-05-09
- 【CCS分类】H80半金属与半导体材料综合
- 【ICS分类】29.045半导体材料
GB/T 11073-2007
硅片径向电阻率变化的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2007-09-11
- 【CCS分类】H17半金属及半导体材料分析方法
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
GB/T 26826-2011
碳纳米管直径的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2011-07-29
- 【CCS分类】G13氧化物、单质
- 【ICS分类】59.100.20碳纤维材料
GB/T 12540-2009
汽车最小转弯直径、最小转弯通道圆直径和外摆值测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2009-03-23
- 【CCS分类】T04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】43.020道路车辆综合
GB/T 12540-2024
汽车及汽车列车最小转弯直径、转弯通道圆和外摆值测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2024-12-31
- 【CCS分类】T04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】43.020道路车辆综合
GB/T 5700-2023
照明测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2023-12-28
- 【CCS分类】A25人类工效学
- 【ICS分类】13.180人类工效学
20233945-T-610
硅片径向电阻率变化测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-PLAN国家标准计划
- 【发布日期】2023-12-28
- 【CCS分类】人类工效学
- 【ICS分类】77.040.01金属材料试验综合
GB/T 5699-2017
采光测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2017-05-12
- 【CCS分类】A25服装、鞋、帽综合
- 【ICS分类】13.180人类工效学
GB/T 31907-2015
服装测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2015-09-11
- 【CCS分类】Y75轮胎
- 【ICS分类】61.020服装
GB/T 26277-2021
轮胎电阻测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-10-11
- 【CCS分类】G41光通信设备
- 【ICS分类】83.160.01轮胎综合
GB/T 15972.45-2021
光纤试验方法规范 第45部分：传输特性的测量方法和试验程序 模场直径
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2021-04-30
- 【CCS分类】M33物性分析仪器
- 【ICS分类】33.180.10光纤和光缆
GB/T 10247-2008
粘度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2008-06-20
- 【CCS分类】N51基础标准与通用方法
- 【ICS分类】77.040.30金属材料化学分析
GB/T 12540-2009\ue003
汽车最小转弯直径、最小转弯通道圆直径和外摆值测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1990-12-12
- 【CCS分类】T04物质成份分析仪器与环境监测仪器综合
- 【ICS分类】温度测量仪器仪表
GB/T 11605-2005
湿度测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】2005-05-18
- 【CCS分类】N50金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】17.200.20金属材料试验
GB/T 11073-1989
硅片径向电阻率变化的测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1989-03-31
- 【CCS分类】H21金属无损检验方法
- 【ICS分类】77.040集成电路、微电子学
GB/T 14143-1993
300～900μm硅片间隙氧含量红外吸收测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1993-02-06
- 【CCS分类】H26金属物理性能试验方法
- 【ICS分类】31.200半导体材料
GB/T 13388-1992
硅片参考面结晶学取向Ｘ射线测量方法
- 【发布单位或类别】 CN-GB国家标准
- 【发布日期】1992-02-19
- 【CCS分类】H21
- 【ICS分类】29.045
检测流程
1、确认客户委托，寄样。
2、到样之后，确定具体的试验项目以及试验方案。
3、实验室报价。
4、签订保密协议，进行试验。
5、完成试验，确定检测报告
6、后期技术服务
友情提示：暂不接受个人委托测试
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